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出展社一覧（半導体産業展 ）
小間番号：A6-36
(株)マブチ・エスアンドティー
弊社の強みは単純な設備・資材の販売にとどまらず、それぞれの市場に対して長きに渡り蓄積した独自のノウハウを保有しておりお客様のご要求に合わせたご提案を可能とする所です。
市場の変化する速度、多様化するニーズに対応する為の「問題解決支援」「付加価値創出支援」を強みとし今後も様々な側面でお客様の支援を実現させて頂きます。
出展製品・サービス
『高濃度オゾン発生装置(ピュアオゾンジェネレータ)』
高濃度・高純度のオゾンガスのことを「ピュアオゾン」と呼び、ピュアオゾンを利用することで、低温、高被覆性、ダメージレスな成膜（ALD、MBE）への酸化源や洗浄用途への利用提案を行っております。 またピュアオゾンとエチレンガスを混合させることで、高活性なOH基を生成する「OER」という技術も当社独自の特許で保有しており、OERでは、ピュアオゾン同様に洗浄、アッシング等での利用はもちろん、表面改質処理として低温、ダメージレスな親水化処理やウェハ同士の接合の前処理技術としても利用可能です。
『有機溶剤ガス回収装置』
有機溶剤を再利用し、環境対策とコスト削減を実現します。 特徴として、独自の圧縮深冷凝集方式により有機溶剤を液化回収します。 フッ素系、臭素系、塩素系、炭化水素系など様々な種類の液に対応。 国内外における販売台数約700台の実績がございます。
『パーティクル管理でクリーンルーム内の空気清浄度管理見える化を低コストで実現』
半導体の製造工程をはじめとする清浄度管理が必要な環境（クリーンルーム等）で、粒子の常時監視が可能なパーティクルモニターをご提案いたします。 クリーンルームに複数台のパーティクルセンシングモニターを設置することで、リアルタイムで各エリアの粒子数をモニタリングできます。 また、異常発生時にはアラームを発報し、品質安定化と歩留まり向上に貢献します。 専用のアプリケーションソフトを利用すれば、簡単にモニタリングシステムを構築することができます。 測定したい粒子の大きさや清浄度クラスによって、ご要望に沿ったモデルをご紹介させて頂きます。
『クリーン環境の新常識 無風×空間除電 TRINC』
TRINCは「無風除電®」と「空間除電®」技術で、風による微粒子拡散を防ぎつつ静電気を効率除去。半導体製造工程でのパーティクル付着や静電破壊を抑制し、歩留まり向上に貢献します。省エネ・低騒音・メンテ性に優れた多彩なイオナイザーで、クリーン環境の品質維持を強力にサポートします。
『ウエハ洗浄技術の革命 TC-23』
TC-23エコブラシシステムは、水流、水量、水流方向の効率を最大化し、ウェーハ洗浄プロセスに革命をもたらします。TC-23™を使用することで、汚染パーティクルが大幅に減少し、ブレークイン時間が短縮され、ウェーハの欠陥が最小限に抑えられ、ウェーハの生産歩留まりが大幅に向上します。
『研削～研磨のソリューション提案』
精密加工分野における 研削・研磨ソリューションのトータルプロバイダー として、お客様の課題に寄り添った提案を予定しております。 ・高精度な表面処理を実現する 研磨パッド ・ワークに最適な保持性能を発揮する 研磨キャリア ・安定した分散性で品質を支える 研磨スラリー分散剤 といった製品を出展予定しております。 当社の強みは、単なる製品提供に留まらず、加工品質の向上・コスト最適化・工程改善 を実現するための総合的なソリューションを提案できる点にあります。是非展示会場でのご相談もお待ちしております。
